行政電(dian)話: /
廠區1:煙台市福(fu)山區魏山路55号
廠(chang)區2:煙台市開發區(qū)北京南路4号3号廠(chang)房
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蒸鍍的物理(li)過程包括:沉積材(cái)料蒸發或升華爲(wei)氣🌂态粒子→氣态粒(li)子快速從蒸發源(yuan)向基片表面輸送(sòng)→氣态粒子附着在(zai)基片表面形核、長(zhang)大成固體薄膜🏃♀️→薄(báo)膜原⚽子重構🏃或産(chan)生化學鍵合。
将基片放入(rù)真空室内,以電阻(zǔ)、電子束、激光等方(fāng)法加熱膜料,使膜(mó)料蒸發或升華,氣(qì)化爲具有一定能(neng)量(0.1~0.3eV)的粒子(原子、分(fen)子或原子團)。氣态(tài)粒子以基本無碰(peng)撞的直線運動飛(fēi)速🔆傳送至🏒基片,到(dào)達基片表面的粒(li)子一部分被反射(she),另一部分吸附在(zài)基片上并發生表(biao)面擴散,沉積原子(zi)之間産生二維碰(pèng)撞,形成💘簇團,有的(de)可能在表面短時(shi)停留後又蒸發。


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