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蒸鍍的物理(lǐ)過程包括：沉(chén)積材料蒸發(fā)或升華爲氣(qì)态粒子→氣♻️态(tai)粒子快速從(cong)蒸發源向基(ji)片表面輸送(song)→氣态粒子附(fù)着在基片表(biǎo)面形核、長大(dà)成固體薄膜(mó)→薄膜原子重(zhòng)構或産生化(huà)學鍵合。
将基片(piàn)放入真空室(shì)内，以電阻、電(diàn)子束、激光等(děng)方法🈲加熱膜(mó)料，使膜料蒸(zhēng)發或升華，氣(qì)化爲具有一(yi)定能量（0.1～0.3eV）的粒(li)子（原子👉、分子(zi)或原子團）。氣(qì)态粒子以基(jī)本無碰撞的(de)直線運❓動飛(fei)速🏃🏻♂️傳送至基(jī)片，到達基片(piàn)表面的粒子(zǐ)一部分被反(fan)射，另一部分(fèn)吸附在基片(piàn)上并發生表(biao)面擴散，沉積(jī)原子之間産(chǎn)生二維碰撞(zhuang)，形成簇團，有(you)的可能在表(biǎo)面短時停留(liú)後又蒸發。
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